Trisilan
| Trisilan | |
|---|---|
 | |
 | |
| Obecné | |
| Systematický název | Trisilan |
| Anglický název | Trisilane |
| Německý název | Trisilan |
| Sumární vzorec | Si3H8 |
| Vzhled | bezbarvá kapalina[1] |
| Identifikace | |
| Registrační číslo CAS | 7783-26-8 |
| EC-no (EINECS/ELINCS/NLP) | 616-514-9 |
| PubChem | 139070 |
| SMILES | [SiH3][SiH2][SiH3] |
| InChI | InChI=1S/H8Si3/c1-3-2/h3H2,1-2H3 |
| Vlastnosti | |
| Molární hmotnost | 92,319 g/mol |
| Teplota tání | −114,8 °C[1] |
| Teplota varu | 52,8 °C[1] |
| Hustota | 0,739 g/cm3[1] |
| Index lomu | 1,4978[2] |
| Bezpečnost | |
 GHS02  GHS07 | |
| H-věty | H250 H261 H315 H319 H335 |
| P-věty | P210 P222 P231+232 P261 P264 P271 P280 P302+334 P302+352 P304+340 P305+351+338 P312 P321 P332+313 P337+313 P362 P370+378 P402+404 P403+233 P405 P422 P501 |
| samozápalnost | |
Některá data mohou pocházet z datové položky. | |
Trisilan je silan se vzorcem H2Si(SiH3)2. Při standardní teplotě a tlaku je kapalný (jedná se o křemíkový analog propanu). Na rozdíl od propanu se však trisilan na vzduchu samovolně vznítí.[3]
Syntéza
[editovat | editovat zdroj]Trisilan charakterizoval Alfred Stock, který jej připravil reakcí kyseliny chlorovodíkové a silicidu hořečnatého.[4][5] Tuto reakci zkoumali již v roce 1857 Friedrich Wöhler a Heinrich Buff a v roce 1902 ji dále zkoumali Henri Moissan a Samuel Smiles.[3]
Rozklad
[editovat | editovat zdroj]Klíčovou vlastností trisilanu je jeho tepelná labilita (nestálost). Podle této idealizované rovnice se rozkládá na vrstvy křemíku a SiH4:
- Si3H8 → Si + 2 SiH4
Z hlediska mechanismu probíhá tento rozklad posunem 1,2 vodíku, při kterém vznikají disilany, normální a izotetrasilany, a normální a izopentasilany.[6]
Protože se trisilan snadno rozkládá a zanechává vrstvy Si, byl zkoumán jako prostředek k nanášení tenkých vrstev křemíku pro polovodiče.[7] Podobně termolýzou trisilanu vznikají křemíkové nanodrátky.[8]
Reference
[editovat | editovat zdroj]V tomto článku byl použit překlad textu z článku Trisilane na anglické Wikipedii.
- ↑ a b c d BRAUER, Georg. Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. Stuttgart: [s.n.], 1975. ISBN 3-432-02328-6. S. 658. (anglicky)
- ↑ D’ANS, Jean; LAX, Ellen; BLACHNIK, Roger. Taschenbuch für Chemiker und Physiker. [s.l.]: Springer DE, 1998. Dostupné online. ISBN 3-642-58842-5. S. 730. (německy)
- ↑ a b SCHENK, P. W. Handbook of Preparative Inorganic Chemistry. 2. vyd. New York: Academic Press, 1963. S. 680.
- ↑ STOCK, Alfred; SOMIESKI, Carl. Siliciumwasserstoffe. I. Die aus Magnesiumsilicid und Säuren entstehenden Siliciumwasserstoffe. Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft. Roč. 49, čís. 111–157. Dostupné online. DOI 10.1002/cber.19160490114.
- ↑ STOCK, Alfred; STIEBELER, Paul; ZIEDLER, Friedrich. Siliciumwasserstoffe, XVI.: Die höheren Siliciumhydride. Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft (A and B Series). Roč. 57, čís. 6, s. 1695–1705. DOI 10.1002/cber.19230560735.
- ↑ WANDERWIELEN, A. J.; RING, M. A.; O'NEAL, H. E. Kinetics of the thermal decomposition of methyldisilane and trisilan. Journal of the American Chemical Society. Roč. 97, čís. 5, s. 993–998. DOI 10.1021/ja00838a008.
- ↑ United States Patent Application Publication. Pub No. US 2012/0252190 A1, OCT, 4, 2012. Zehavi et al.
- ↑ HEITSCH, Andrew T.; FANFAIR, Dayne D.; TUAN, Hsing-Yu, Brian A. Korgel. Solution−Liquid−Solid (SLS) Growth of Silicon Nanowires. Journal of the American Chemical Society. Roč. 130, čís. 16, s. 5436–5437. DOI 10.1021/ja8011353. PMID 18373344.
Externí odkazy
[editovat | editovat zdroj]
Obrázky, zvuky či videa k tématu Trisilan na Wikimedia Commons
